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Descrição

Descarte de material eletronico com laudo ICP-OES NIST e rastreabilidade total

O descarte de material eletronico abrange placas de circuito impresso (PCBs), componentes discretos (resistores, capacitores, indutores, diodos, transistores), circuitos integrados (IC, DIP, SMD, BGA, QFN), memorias, conectores, cabos, transformadores, LEDs, telas, sensores e perifericos. Cada material tem caracterizacao especifica pela NBR 10004 classe II-A ou I conforme teor de Hg/Cd/Pb/PCB.

A SucatasVS opera planta industrial com throughput de 40 ton/mes, OEE de 85% e MTBF de 8000 horas. O fluxo inclui triagem especializada, trituracao primaria a 1-10 mm, separacao magnetica Nd-Fe-B, separacao densimetrica (mesa Wilfley), separacao eletrostatica (metal/polimero), refino eletrolitico e lixiviacao acida controlada para metais preciosos.

O ensaio analitico do material eletronico utiliza ICP-OES (Inductively Coupled Plasma - Optical Emission Spectrometry) calibrado com padroes rastreaveis ao NIST, com precisao sub-ppm em metais preciosos. O laudo quantifica Au (80-400 g/ton em placas), Ag (400-900 g/ton), Pd (50-150 g/ton), Cu (acima de 8% em peso agregado), Sn em solda (2-4%), Pb em solda antiga.

Cada lote de descarte de material eletronico recebe pesagem Inmetro classe III, laudo NBR 16725, classificacao NBR 10004, MTR SIGOR CETESB, certificado de destinacao ambientalmente adequada, declaracao de custodia Basileia e relatorio PNRS trimestral. Contratos B2B acima de 1 ton/mes tem SLA 48h em 150 km de SP, trava LME, payback 30 dias, ISO 14001 e ESG GHG Protocol.

A estrutura hidrometalurgica integra reator de lixiviacao de 2 m3 com agitacao controlada (250 rpm), controle PID de temperatura a 60°C +/- 1°C, coluna de captacao de nevoa acida com eficiencia acima de 99% (NaOH 20% como absorvente), sistema de neutralizacao em cascata ate pH 7-8 para efluente, precipitacao de Au com metabissulfito de sodio (Na2S2O5) em tanque de 500 L, forno de secagem a 120°C para concentrado, balanca analitica Mettler AT261 (precisao 0,1 mg), ensaio ICP-OES Agilent 5800 com limite de deteccao sub-ppb em Au e Pd e calibracao diaria com padroes rastreaveis NIST.

Parametro tecnicoEspecificacao
Throughput planta40 toneladas/mes
EnsaioICP-OES calibrado NIST sub-ppm
Teor Au / Ag em placas80-400 / 400-900 g/ton
Refino Cu99,9% LME Grade A
SLA coleta48 horas uteis
NormasNBR 16725 NBR 10004 ISO 14001 PNRS Basileia

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